光亮電鍍的幾種理論
光亮電鍍的幾種理論
1．2．1．1 細晶理論
細晶理論的內容為：若鍍層的顯微結構是由小于最短可見光波長(o．4叩)的晶粒組成的，光可以像在全光滑表面上那樣被反射，則鍍層呈現光亮。然而，從鍍層晶粒的大小來反推鍍層是否光亮時，常出現偏差。后來，Read和weil指出，并非所有細晶粒的鍍層都是光亮的．即鍍層晶粒的大小同鍍層的光亮性之間并無直接關系。
1．2．L 2 昂面定向理論
晶面定向理論是H帥，Roth。v于1940年提出的，該理論認為鍍層的光亮與否決定于晶面在金屬表面的定向，僅當晶體的每一個晶面都是有規則的取平行于底材平面的方向，光才能被全反射而達到鏡面光亮的鍍層。這種看法可以解釋部分實驗事實，研究證明光亮鍍層的晶體結構的定向性并不一定比普通鍍層高鏡面光亮的鍍層也可以完全由無序晶體結構的鍍層得到。
1．2．L 3 膠體膜理論
J．久H印rtc愧于Ig40年提出的添加劑大部分是酸洗液中所用的抑制劑，而光亮鍍層的形成是陰極膜中無機膠體參與的結果。該理論雖有相當的實驗依據，但仍局限于實驗現象的一般歸納。
L 2．1．4 電子自由流動理論
1974年，馬場宣良提出電子自由流動理論，認為鍍層之所以出現光亮是因為鍍層中的電子可以自由流動的結果。眾所周知，金屬品格中充滿了可自由流動的電子，當光照射到全局表面時，自由電子迅速把光能傳遞到整個結晶中去，并立即把光放出，結果一點也不吸收光，顯示光亮。自由電子流動理論可以解釋光亮產生的原因，以及金屬表面粗糙度和添加劑對光亮度的影響，但不能解釋含不飽和雙鍵和叁鍵的光亮劑還原產物
無半導體性質而產生光亮的原因。
L 2．L 5 平滑細晶理論
實際生產中采用機械打光、化學拋光、電化學拋光和直接進行光亮電鍍等方法來獲得光亮表面。根據研究者對光亮電鍍電化學拋光過程的研究，發現鍍層的光亮和鍍層表面或底材表面是否平滑、晶粒大小有關，概括起來就是“不紉不光，不平不亮”。平滑細晶理論的中心思想是必須同時滿足鍍層表面平滑和結晶細小兩個條件。
(U提出乎滑細晶理論的依據光亮電鍍
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L 2．L 5 平滑細晶理論
實際生產中采用機械打光、化學拋光、電化學拋光和直接進行光亮電鍍等方法來獲得光亮表面。根據研究者對光亮電鍍電化學拋光過程的研究，發現鍍層的光亮和鍍層表面或底材表面是否平滑、晶粒大小有關，概括起來就是“不紉不光，不平不亮”。平滑細晶理論的中心思想是必須同時滿足鍍層表面平滑和結晶細小兩個條件。
(U提出乎滑細晶理論的依據